Intel maakt D1X-chipfabriek in Oregon gereed voor High-NA-euv – Computer – Nieuws

Intel heeft de nieuwe ‘module’ van zijn D1X-chipfabriek in Oregon geopend waar het bedrijf onder meer zijn toekomstige nodes ontwikkelt en produceert. Deze Mod 3-uitbreiding omvat onder andere een nieuwe cleanroom, waar op termijn High-NA-euv-machines komen te staan.

Intel vertelt in een besloten meeting met journalisten dat de D1X Mod 3-uitbreidingen goed zijn voor omgerekend 25.000 vierkante meter extra cleanroomcapaciteit. Het bedrijf zegt dat de uitbreidingen ruim 3 miljard dollar kostten, hoewel het ook zegt dat het in de toekomst meer gaat investeren in de nieuwe uitbreiding.

De D1X-fabriek staat op de voormalige Ronler Acres-campus, die maandag door de fabrikant werd herdoopt in Gordon Moore Park. Het bedrijf doet daar nagenoeg alle ontwikkelingswerkzaamheden voor toekomstige procedés en neemt ook een deel van de massaproductie met dergelijke nodes op zich. Het bedrijf fabriceert er ook de lithografiemaskers voor chipproductie en doet er ander r&d-werk. De campus werd in april 1997 geopend en beslaat inmiddels 182 hectare op een industrieterrein ten westen van Portland.

Intel bevestigt aan journalisten dat de D1X Mod 3-faciliteit onder meer ingezet gaat worden voor het uitwerken van zijn huidige publieke roadmap, zoals het Intel 4-procedé dat voor dit jaar in de planning staat, waarmee het bedrijf voor het eerst euv-lithografie gaat inzetten. D1X zal ook ontwikkelwerk doen voor nodes als Intel 20A, die voor het eerst gate-all-aroundtransistors en PowerVia voor stroomtoevoer zullen toepassen, en Intel 18A, waarvan de productiestart onlangs is vervroegd naar de tweede helft van 2024. In de nieuwe cleanroom zal ook gewerkt worden aan toekomstige nodes die nog niet op de openbare roadmap staan, zegt het bedrijf.

Daarnaast deelt de fabrikant voor het eerst details over een interne testnode die het zal ontwikkelen in D1X. Die node wordt volgens het bedrijf Intel 4- of Intel 3-achtig met traditionelere finfet-transistors, maar dan met PowerVia. Intel zegt tegen journalisten dat die node niet commercieel wordt ingezet, maar alleen bedoeld is om data over de PowerVia te vergaren voordat deze stroomvoorzieningstechniek wordt ingezet in combinatie met een nieuw transistortype in Intel 20A.

De fabrikant vertelt aan journalisten dat D1X de flagship-chipfabriek van het bedrijf blijft, ook nu het geavanceerde chipfabrieken in Duitsland en Ohio heeft aangekondigd. “Oregon blijft altijd de leading-edge, de plek waar we de ontwikkeling van de volgende node doen. We zullen hier de productie met nieuwe nodes eerst opvoeren en deze daarna overbrengen naar andere sites.”

Daarbij vertelt Intel dat de eerste High-NA-euv-machines van ASML geïnstalleerd zullen worden in D1X Mod 3. Het bedrijf bevestigde eerder al dat het de eerste High-NA-machine bij ASML heeft gereserveerd. Intel vertelt aan journalisten dat het hoopt High-NA rond 2025 voor het eerst in te zetten. Het bedrijf zegt wel dat het contingency plans heeft ingebouwd in zijn roadmap, zodat nieuwe procedés eventueel ook geproduceerd kunnen worden zonder High-NA als die euv-techniek vertraging oploopt bij ASML.